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mots clés [ metal plasma polishing machine ] rencontre 56 produits.
10 - 100V Polissage électro-chimique assisté par polissage au plasma métallique Certifié ISO9001
Température: | 20-50℃ |
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Électrolyte: | Solution acide |
Durée: | 10 à 30 minutes |
20 - 100 volts PEP Plasma Polissage électrolytique Machine de polissage de surface lisse
Voltage: | 20 à 100 volts |
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Roughness de la surface: | 00,1-0,5 microns |
Les avantages: | Haute efficacité, faible coût, écologique |
Contrôle à écran tactile PLC Plasma Machine de meulage de haute précision 500W convivial
Température de traitement du plasma: | Température ambiante |
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Système de commande: | Contrôle de PLC d'écran tactile |
Pression de traitement du plasma: | 0.1-1.0 Pa |
machine de traitement de surface de plasma industriel 220V / 50Hz avec générateur RF
Température de traitement du plasma: | Température ambiante |
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Consommation d'électricité: | 500 kW |
Uniformité du traitement du plasma: | ± 5% |
Machine de finition de surface écologique de polissage électrolytique au plasma lisse / brillant
Procédure: | Polissage électrolytique |
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Matériel: | Métal |
Les avantages: | Haute efficacité, faible coût, écologique |
Machine de polissage électronique à solution neutre 0,5 à 5 ampères pour une résistance accrue à la corrosion
Température: | 20 à 50 degrés Celsius |
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Voltage: | 20 à 100 volts |
Actuel: | 0.5 à 5 ampères |
Équipement de finition des métaux de 20 V à 100 V
Inconvénients: | Limité aux matériaux conducteurs, nécessite des opérateurs qualifiés |
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Électrolyte: | solution neutre |
Procédure: | Polissage électrolytique |
Équipement de polissage de surface électrochimique
Qualité de la surface: | Lisse et brillante |
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Procédure: | Polissage électrolytique |
Matériel: | Métal |
Électrolyte Plasma Finition de surface Électroliçage Solution neutre
Matériel: | Métal |
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Température: | 20-50℃ |
Taux de retrait: | 0.1-1 mm/min |
Système de finition de plasma de haute précision avec machine de raffinage de surface de chambre de quartz
Consommation d'électricité: | 500 W |
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Pression de traitement du plasma: | 0.1-1.0 Pa |
Uniformité du traitement du plasma: | ± 5% |